Sick LFV200-XXHCLTPM การเริ่มใช้งานโดยไม่ต้องเติมภาชนะหรือสอบเทียบกับตัวกลาง (Commissioning without container filling or medium calibration), ไม่ไวต่อการขึ้นตะกอน (Immune to deposit formation), อุณหภูมิการทำงานของกระบวนการสูงสุด 150 °C (Process temperature up to 150 °C) คุณสมบัติเหล่านี้ช่วยให้การติดตั้งและใช้งานสะดวกขึ้น ลดความจำเป็นในการปรับเทียบภาคสนามและรองรับการทำงานในอุณหภูมิการประมวลผลสูงถึง 150 °C